Qual è la temperatura media del laboratorio della fornace di silicio monocristallino

Qual è la temperatura media del laboratorio della fornace di silicio monocristallino

Se si tratta della temperatura ambiente dell'officina, ci sono molti fattori da considerare, come le dimensioni dell'officina, l'installazione della ventilazione e dell'aria condizionata. Il forno in silicio monocristallino ha l'effetto di isolamento termico. Sebbene la temperatura interna possa raggiungere i 1420 gradi Celsius, la temperatura esterna è sostanzialmente normale. La produzione di silicio monocristallino richiede anche temperatura e umidità standard. Generalmente, la temperatura nell'officina sarà regolata a circa 25 gradi Celsius, mentre in inverno la temperatura sarà leggermente inferiore a causa degli influssi esterni, generalmente intorno a una dozzina di gradi Celsius.

Come si chiamano le parti di grafite nel forno monocristallino dall'alto verso il basso

I principali prodotti della grafite sono parti lavorate del campo termico di grafite. Ci sono molte parti di grafite nel campo termico monocristallino. Dall'alto al basso, sono generalmente suddivisi in crogiolo di grafite, riscaldatore di grafite, cilindro isolante in grafite, vassoio di grafite, asta di grafite, elettrodo di grafite e telaio di grafite. .

Materiale di silicio: tirare il singolo cristallo per realizzare barre di silicio, tagliare quadrati per realizzare blocchi di silicio a fette, per realizzare wafer di silicio, solidificazione direzionale per realizzare lingotti di silicio, tagliare quadrati per realizzare blocchi di silicio a fette, per realizzare wafer di silicio In altre parole, i materiali di silicio includono materiali primari in silicio policristallino e materiali riciclati in silicio monocristallino. Il silicio policristallino primario è generalmente chiamato materiali positivi, che hanno elevata purezza e prezzi elevati. Materiali riciclati in silicio monocristallino come materiali della testa e della coda dell'asta in silicio monocristallino, materiale del bordo, materiale del fondo della pentola, materia prima ottenuta dopo la pulizia della fetta della batteria, ecc. Il materiale in silicio viene fuso in un forno a cristallo singolo (il forno Czochralski è più comune nel processo di produzione di silicio monocristallino di grado solare) e quindi sottoposto a una serie di processi per crescere in barre di silicio monocristallino e successiva lavorazione delle barre di silicio monocristallino, per ottenere un lingotto di silicio monocristallino e quindi utilizzare un'affettatura macchina per tagliare il lingotto di silicio per ottenere un wafer di silicio. La forma della crescita policristallina è determinata dal processo di produzione e alcuni sono a forma di bastoncino. Ad esempio, il metodo Siemens e il metodo al silano sono a forma di bastoncino. Naturalmente, la forma è veloce quando si rompe.

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