La macchina di rivestimento sottovuoto è ancora nella fase iniziale di sviluppo
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La macchina di rivestimento sottovuoto è ancora nella fase iniziale di sviluppo
Sebbene il rivestimento sottovuoto dell'acciaio a nastro sia ancora nella fase iniziale di sviluppo in generale, il costo è elevato e la produttività è bassa, quindi la sua quota nel trattamento superficiale del nastro è ancora lontana da quella dell'immersione a caldo e della galvanica. Tuttavia, le caratteristiche ad alto valore aggiunto dei suoi prodotti e vari altri vantaggi mostrano le sue buone prospettive applicative. Attualmente, all'estero esistono linee di produzione di rivestimento sottovuoto di nastri d'acciaio con una larghezza di rivestimento di 1.250 m, una velocità massima del nastro di 180 m al minuto e una produzione annua di 300.000 tonnellate. È prevedibile che diventerà un nuovo punto luminoso nello sviluppo sostenibile dell'industria siderurgica. Inoltre, nell'odierno campo tecnologico tradizionale è stato monopolizzato da giganti siderurgici stranieri, lo sviluppo e la ricerca della tecnologia di rivestimento sottovuoto dei nastri offre al mio paese un'eccellente opportunità per "stabilire diritti di proprietà intellettuale indipendenti e sbarazzarsi della situazione di correre dietro ad altri per un a lungo".
Tipo di rivestimento multistrato per macchina di rivestimento sottovuoto
La linea di produzione adotta una varietà di moderni metodi di rivestimento elettrofisico come il rivestimento sottovuoto con riscaldamento a fascio di elettroni, il rivestimento a polverizzazione sottovuoto e il rivestimento in fase gassosa assistito da plasma. Il pretrattamento della striscia è stato eseguito rispettivamente mediante pulizia con preriscaldamento con fascio di elettroni e bombardamento con plasma a scarica luminescente. Diversi metodi di rivestimento possono essere utilizzati per il rivestimento multistrato sulla stessa superficie del nastro. Il rivestimento del primo strato richiede una buona adesione e adotta il rivestimento a polverizzazione sottovuoto; il secondo strato utilizza il rivestimento per evaporazione del riscaldamento a fascio di elettroni, che presenta i vantaggi di un'elevata densità di energia del fascio di elettroni, un'elevata temperatura di riscaldamento e un'ampia gamma di materiali di rivestimento; il terzo strato utilizza un rivestimento a vapore chimico potenziato al plasma, questo tipo di rivestimento è uniforme e liscio, il film è duro e la stabilità chimica è buona, che può essere utilizzata per il film protettivo più esterno. Questa linea di produzione è attualmente utilizzata principalmente per la ricerca scientifica e lo sviluppo. Le larghezze lavorabili del nastro sono 300, 500 e 800 mm.
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