Principio di funzionamento della macchina di rivestimento ionico della macchina galvanica sottovuoto
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Principio di funzionamento della macchina di rivestimento ionico della macchina galvanica sottovuoto
La continua ricerca e sviluppo della tecnologia ha continuamente migliorato il livello del processo di produzione nel settore. Rispetto alle malattie incurabili del passato, sono state gradualmente risolte nel tempo. Allo stesso tempo, sempre più prodotti vengono sviluppati e nati sulla base del progresso scientifico e tecnologico man mano che aumentano le esigenze delle persone. E oggi parleremo della macchina per il rivestimento ionico.
Il principio della macchina di rivestimento ionico è in realtà quello di utilizzare lo scarico di gas o la ionizzazione parziale del materiale evaporato nella camera del vuoto e di depositare il materiale evaporato o il reagente sul substrato mentre gli ioni gas o le particelle di materiale evaporato vengono bombardati. La placcatura ionica combina organicamente il fenomeno della scarica luminescente, la tecnologia al plasma e l'evaporazione sotto vuoto, che non solo migliora significativamente la qualità del film, ma amplia anche la gamma di applicazioni dei film sottili. I suoi vantaggi sono una forte adesione del film, una buona diffrazione e un'ampia gamma di materiali per film. DM ha proposto per la prima volta il principio della placcatura ionica. Il processo di lavoro è il seguente: prima pompare la camera a vuoto a un grado di vuoto superiore a 4×10(-3) Pa, quindi accendere l'alimentazione ad alta tensione e stabilire uno scarico di gas a bassa pressione tra l'evaporazione sorgente e il substrato. plasma a bassa temperatura. L'elettrodo del substrato è collegato a un'alta tensione negativa di 5KV CC per formare un catodo a scarica luminescente. Gli ioni di gas inerte generati nella regione di scarica luminescente entrano nella regione oscura del catodo e vengono accelerati dal campo elettrico e bombardano la superficie del substrato per pulirlo. Quindi entra nel processo di rivestimento, riscaldandosi per vaporizzare il materiale di rivestimento, e gli atomi entrano nell'area del plasma, entrano in collisione con gli ioni e gli elettroni del gas inerte e una piccola parte viene ionizzata. Gli ioni ionizzati e gli ioni gassosi bombardano la superficie del rivestimento con maggiore energia, determinando una migliore qualità del film.
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